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河北快3薄膜生长设备高真空镀膜机 > VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
  • 产品名称: VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
  • 上架时间: 2017-04-28
  • 产品编号: 03050101
  • 浏览次数: 934

产品简介:VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。

 

产品型号

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

产品型号

VTC-600-2HD

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套接头)及减压阀

4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1、配置两个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。

2、可制备多种薄膜,应用广泛。

3、体积小,操作简便。

技术参数

1、电源电压:220V  50Hz

2、极限功率:<2KW(不含真空泵)

3、极限真空度:9.0×10-4Pa

4、样品台加热温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)

5、靶枪数量:2个(可选配其他数量)

6、靶枪冷却方式:水冷

7、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

8、直流溅射功率:500W射频溅射功率:300W。(靶电源种类可选,可选择两个直流电源,也可选择两个射频电源,或选则一个直流一个射频电源)

9、载样台:Ø140mm

10、载样台转速:1rpm-20rpm内可调

11、保护气体:Ar、N2等惰性气体

12、进气气路:质量流量计控制2路进气,一路为100SCCM,另一路为200SCCM。

产品规格

1、主机尺寸:500mm×560mm×660mm

2、整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm

3、重量:160kg

标准配件

1

直流电源控制系统

1套

2

射频电源控制系统

1套

3

膜厚监测仪系统

1套

4

分子泵(德国进口)

1台

5

冷水机

1台

6

冷却水管(Ø6mm)

4根

可选配件

金、铟、银、白金等各种靶材

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪操作指导

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